2016年1月26日

比較位移級發射器和差壓力發射器技術

通常使用各種技術來完成過程行業的水平測量。盡管該行業正在不斷創新，但許多級別的應用程序仍在使用較舊技術的情況下進行監管。這些較舊的技術之一是過程控製行業中使用的差異（DP）水平發射器，該技術是在1950年代首次引入的。它根據液體的輸入特異性重力/密度來測量容器中液體的靜水壓力，並將其轉換為水平測量。

較新的技術也取決於特定的重力，這是位移級發射器。液位變化引起的浮力變化作用於彈簧支撐的位移器上，導致線性變化變壓器（LVDT）內芯的垂直運動。隨著核心位置隨液位的變化而變化，在LVDT的次級繞組之間誘導電壓。這些信號在電子電路中處理並轉換為可用的輸出信號。封閉管充當LVDT和過程介質之間的靜態隔離屏障。Magnetrol®生產一個名為E3Modulevel®的位移級發射器，一種先進的，本質上安全的兩線儀器。

Magnetrol E3模塊置換器發射機

位移級發射器和差壓力發射器之間存在顯著差異，這會影響所選水平發射器的安裝，維護和準確性。位移級發射器可以在廣泛的應用中提高過程性能，從而在多個領域提供了與差壓發射機相比的顯著優勢，包括：

  • 校準
  • 溫度範圍
  • 安裝
  • 安裝成本

磁鐵生產的白皮書概述了位移級發射器技術比差壓發射器的好處，包括並排比較圖。要了解有關這些發射器的更多信息，下載白皮書。